Keramische Endkappe für IR Emitter

Mon, 27 Jul 2026 09:19:22 +0800

Warum wir von der gezielten Luftzufuhr auf Infrarotheizung umsteigen
Denken Sie darüber nach, wie die gezielte Luftzufuhr funktioniert: Im Grunde wird die Luft erhitzt – und man hofft, dass diese Energie anschließend auf das Bauteil übertragen wird. Das Problem ist jedoch, dass dieser Prozess sehr langsam abläuft. In der Welt der Halbleiterfertigung bedeutet das einfach nur Zeitverschwendung.

Deshalb verwenden wir Infrarotstrahler. Anstatt mit der Luft zu arbeiten, senden die Infrarotstrahler die Energie direkt zum Zielobjekt. Die Energie trifft sofort dort ein – ohne Zwischenmittel und ohne Wartezeit.

Linearer Infrarot Heizeemitter

Wed, 24 Jun 2026 04:06:23 +0800

In der Lithografie-Bereich wird bereits eine leichte Temperaturänderung von einer halben Grad schnell bemerkt – das führt zu Schwankungen in der Linienbreite und zu einem Rückgang der Ausbeute. Man versucht zwar, die Spezifikationen einzuhalten, doch das Heizmodul macht es schwierig, eine gleichmäßige Temperatur über die gesamte Waferfläche hinweg zu gewährleisten. Zudem führt die Bildung von Partikeln dazu, dass die Reinräume unter Stress geraten. Die lineare Infrarot-Heizung kann beide Probleme gleichzeitig lösen.

Was technisch wichtig ist:
Der lineare Infrarot-Emitter heizt direkt und schnell und hält die Temperatur auf der Waferoberfläche bei ±0,1°C konstant. Änderungen der Zieltemperatur erfolgen innerhalb von Sekundenbruchteilen – dadurch entstehen keine Temperaturspitzen mehr. Der Emitter kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden, wobei keine Partikel entstehen. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg stabil, mit weniger als 5% Intensitätsabweichungen. Die Abmessungen sowie die Anschlüsse entsprechen den Standards für Halbleiterausrüstung – man kann ihn also ohne Änderungen am Prozessraum einsetzen.

Emitter on Leading IR Heating Supplier

Keramische Endkappe für IR Emitter

Linearer Infrarot Heizeemitter