Automatisierter Trockenheizer für Wafer

Wed, 01 Jul 2026 12:44:37 +0800

Auf dem Produktionsboden weiß man, wie schnell bereits ein einziger Fleck durch feuchte Reinigung oder ein Defekt im Fotolack dazu führen kann, dass ganze Chargen von Wafern unbrauchbar werden. In den thermischen Verarbeitungsschritten entscheidet sich dabei, ob die Qualität der Wafers erhalten bleibt oder nicht. Wir haben diesen automatischen Trockner für die Anforderungen des Wafertrocknens sowie der weichen und harten Belichtung entwickelt – mit einer reproduzierbaren Temperaturregelung, wie sie in der Lithografie erforderlich ist.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotstrahler sowie eine Schleifenmessung, um die Temperatur auf dem Wafer innerhalb von ±0,1°C zu halten. Diese Konstanz sorgt dafür, dass die kritischen Abmessungen stabil bleiben und dass es zu keiner Bildung von Schichten kommt. Die Kammer ist für den Einsatz in Reinräumen der Klassen 1–100 geeignet – mit polierten Oberflächen und laminarem Luftstrom, sodass keine Partikel entstehen. Die Einstellungen für Temperatur, Erhitzungsgeschwindigkeit und Aufenthaltsdauer sind festgelegt, sodass jede Behandlung genauso abläuft wie die vorherige.

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Automatisierter Trockenheizer für Wafer