Infrarotwellenlampe 1µm 2µm

Fri, 05 Jun 2026 04:07:59 +0800

Auf der Fertigungsfläche

Temperaturdrift während des Backens von Fotolack oder ein halbgetrockneter Wafer nach der Reinigung ist kein theoretisches Problem. Es ist Ausschuss. Wir haben unsere Infrarot-Wellenlampen bei 1μm und 2μm entwickelt, um die thermische Kontrolle innerhalb des Prozessfensters zu halten, selbst wenn die Warteschlange sich staut und die Umgebung versucht, Ihnen Schwierigkeiten zu bereiten.

Was unter der Haube wichtig ist
Diese Lampen geben gezieltes NIR bei 1μm und 2μm ab, abgestimmt darauf, wie Wasserfilme und die Polymerchemien in der Lithographie und Verpackung tatsächlich absorbieren. Die Geometrie des Emitters und das Reflektordesign sorgen für eine thermische Gleichmäßigkeit auf Wafer-Ebene innerhalb von ±0,1 °C, was kritische Abmessungen schützt und die Profile unter Kontrolle hält.
Sie sind für Reinräume der Klasse 1–100 geeignet, gebaut mit Materialien mit geringer Ausgasung und einer Architektur, die Partikel minimiert. Null Partikelerzeugung ist hier kein Slogan — es ist ein strenges Designkriterium. Das System läuft 24/7 mit wiederholbaren Anstiegsprofilen, und die Ausgabe bleibt über 5.000+ Stunden stabil mit weniger als 5 % Abfall.

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