На производственном участке качество продукции напрямую зависит от температуры. Изменение температуры нагревательного элемента MOCVD на 0,5°C во время процесса эпитаксии GaN приводит к неоднородности толщины слоя, бракованным пластинам и неудачам при формировании желаемых структур. Мы разработали инфракрасный нагреватель для процесса MOCVD из ГАН, чтобы устранить такие факторы, влияющие на качество продукции.
Что действительно важно Основой является использование коротковолнового инфракрасного излучения, что позволяет точно контролировать температурное поле с точностью до подмиллиметра. Удается достичь стабильности температуры в пределах ±0,1°C по всей поверхности подложки, а также обеспечивается повторяемость процесса, что способствует стабильности параметров при каждом цикле обработки. Инфракрасное излучение реагирует быстро, поэтому температура не выходит за заданные рамки. Профиль температуры сохраняется даже после технического обслуживания, замены оборудования или изменения условий в чистой комнате. Данная система подходит для использования в чистых комнатах класса 1–100; при этом не возникает пыли, а мощность выхода остается стабильной даже после 5,000 часов работы.
Почему это важно для процесса MOCVD из ГАН В процессе MOCVD из ГАН стабильность температуры имеет решающее значение для качества слоя и количества дефектов. Если температура в горячей зоне контролируется точно, то можно достичь заданных параметров, сократить количество бракованных изделий и ускорить процесс их производства.
Та же степень точности полезна также при процедурах обработки фоторезиста – будь то мягкая или жесткая обработка. Это позволяет лучше контролировать размеры элементов и уменьшить количество дефектов на краях. Кроме того, благодаря точному контролю температуры требуется меньше энергии для ее поддержания.
Практические аспекты Установка зависит от правильного расположения компонентов и выравнивания кварцевого окна. Любое отклонение на несколько десятых миллиметра приводит к смещению температуры в горячей зоне.
Необходимо использовать отдельный источник питания с надежной системой заземления, иначе может возникнуть помехи в работе системы контроля температуры. Любые изменения в кварцевых компонентах требуют быстрой перекалибровки, но после этого профиль температуры остается стабильным.