Di kilang pengeluaran wafer yang canggih ini, anda pasti tahu betapa cepatnya kesan kotoran akibat proses pembersihan menggunakan air atau kecacatan pada lapisan photoresist boleh merosakkan keseluruhan wafer tersebut. Langkah-langkah pemanasan memainkan peranan penting dalam menentukan sama ada kualiti wafer dapat dikekalkan atau tidak. Kami telah mencipta pemanas automatik untuk proses pengeringan wafer ini, agar suhu dapat dikawal dengan tepat mengikut keperluan proses litografi.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek serta sistem pengukuran suhu berlitar tertutup untuk memastikan suhu tetap stabil dalam lingkungan ±0.1°C pada permukaan wafer. Keseragaman suhu ini membantu mengekalkan dimensi wafer yang stabil dan mengurangkan pembentukan lapisan kotoran pada permukaan wafer. Bilik pengeringan ini direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih tahap 1–100, dengan permukaan yang licin serta aliran udara yang terkawal, sehingga jumlah zarah debu dapat diminimumkan. Tetapan suhu, kadar pemanasan, dan masa pemanasan ditetapkan dengan tepat, agar setiap proses pemanasan berjalan dengan sama seperti sebelumnya.
Mengapa cara ini berkesan
Dalam proses pengeringan wafer, alat ini dapat menghilangkan bahan pelarut dengan cepat tanpa menyebabkan masalah, sekaligus mencegah keruntuhan corak pada wafer. Alat yang sama juga dapat digunakan untuk proses pemanasan jenis “soft bake” dan “hard bake”, dengan kawalan suhu yang konsisten. Ini seterusnya meningkatkan daya lekat antara lapisan-lapisan pada wafer serta meningkatkan ketepatan proses etching. Respons suhu yang cepat serta pengurusan tenaga yang efisien membantu mengurangkan penggunaan tenaga. Kebolehpercayaan alat ini pula membantu mengurangkan masa henti yang tidak dijangka. Hasilnya ialah kadar pengeluaran yang lebih tinggi, kawalan dimensi wafer yang lebih baik, serta pengurangan keperluan untuk melakukan proses pembuatan semula.
Butiran yang memastikan alat ini berfungsi dengan baik
Pemanas ini boleh disambungkan dengan sistem SECS/GEM serta alat-alat pengendali wafer yang biasa digunakan. Namun, prestasi penuh alat ini bergantung pada penyesuaian suhu udara keluar, suhu cecair penyejuk, dan voltan bekalan elektrik mengikut keperluan kilang anda. Pastikan anda mempunyai sistem pengudaraan yang sesuai untuk bilik bersih, dan pastikan saiz wafer serta cara penyimpanannya sesuai dengan antaramuka mekanikal alat ini. Dengan semua butiran ini dipastikan dengan betul, alat ini akan berfungsi sebagaimana yang diharapkan, dari satu syif ke syif yang lain.