Di pabrik pembuatan wafer, faktor yang menentukan kualitas produk adalah suhu. Perubahan suhu sebesar 0,5°C pada pemanas MOCVD selama proses epitaksi GaN akan menyebabkan ketidakseragaman ketebalan lapisan wafer, wafer yang rusak, serta gagalnya pencapaian target kualitas yang diinginkan. Kami merancang pemanas inframerah MOCVD untuk GaN agar variabilitas suhu tersebut dapat dikendalikan.
Yang penting dalam desain ini Inti dari pemanas ini adalah radiasi inframerah berfrekuensi rendah, sehingga memungkinkan pengendalian suhu yang sangat akurat, hingga tingkat sub-milimeter. Konsistensi suhu mencapai ±0,1°C di seluruh permukaan susceptor, dan kemampuan reproduksi yang baik sehingga pola suhu tetap konsisten antar siklus. Respons inframerahnya cepat, sehingga tidak terjadi peningkatan suhu yang berlebihan. Profil suhu juga tetap stabil setelah dilakukan perawatan atau pergantian alat, bahkan ketika ada perubahan arus udara di ruang bersih. Desain ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan generasi partikel nol dan kinerja yang stabil hingga lebih dari 5.000 jam penggunaan.
Mengapa pemanas ini cocok untuk proses GaN MOCVD Dalam proses GaN MOCVD, stabilitas suhu sangat penting untuk menentukan kualitas lapisan dan tingkat kecacatan pada wafer. Dengan menjaga suhu di zona panas tetap konstan, kita dapat mencapai target suhu yang diinginkan dengan mudah, mengurangi jumlah wafer yang rusak, dan mempersingkat waktu proses produksi.
Presisi yang tinggi ini juga berguna dalam proses pematangan bahan fotoresist—baik proses pematangan lembut maupun keras. Dengan demikian, kontrol dimensi kritis menjadi lebih baik, dan masalah terkait tepi wafer pun berkurang. Selain itu, karena sistem ini mampu mencapai dan mempertahankan suhu yang stabil, maka energi yang digunakan pun berkurang.
Detail teknis Pemasangan pemanas ini membutuhkan penyesuaian geometri posisi pemanas dan alinhemenya dengan lubang kaca kuarsa. Jika ada penyimpangan sebesar beberapa puluh milimeter, maka zona panas akan berubah posisi.
Gunakan sumber daya listrik yang berkualitas, beserta sistem grounding yang baik, agar tidak terjadi gangguan EMI pada sistem pengendali suhu. Setiap perubahan komponen kuarsa memerlukan kalibrasi ulang, tetapi setelah dikalibrasi, profil suhu akan tetap stabil.